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Our group investigates fundamental problems in semiconductor devices, polymers, and biology using surface analysis techniques.
EC4017 TEL: (07)525-2000 #4440
Tubular furnaces
高溫管狀爐

D-80
高溫管狀爐是利用電阻加熱元件產生熱能,透過熱傳導與輻射將熱量傳遞到中心的耐高溫爐管,並將樣品置於爐管中進行加熱處理。可搭配氣體流通系統控制爐內氣氛(如惰性或還原性氣體),並由溫控系統精確調節升溫、恆溫與降溫過程,廣泛應用於材料燒結、熱處理與高溫反應實驗。
本實驗室之高溫管狀爐規格:
爐內尺寸: 內直徑 80mm
爐外尺寸W x L x H: 280x450x430
加熱區長度: 400mm
電壓/電流: 220V/13A
溫度範圍: 1200℃~常用1100℃
溫度精度: ± 1℃%
測溫體: K TYPE
安全裝置: 自我診斷功能,溫度異常,過熱、斷線、電源保護
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